- PII
- 10.31857/S0023476124030144-1
- DOI
- 10.31857/S0023476124030144
- Publication type
- Article
- Status
- Published
- Authors
- Volume/ Edition
- Volume 69 / Issue number 3
- Pages
- 487-493
- Abstract
- A film of manganese silicides on mica was obtained using a magnetron sputter from three types of targets. Microstructure and elemental composition of targets and films studied by scanning electron microscopy and electron reflection diffraction methods. The phase composition and texture of films by thickness (cross sections) were controlled by scanning and transmission electron microscopy. It has been shown that when depositing films from a poly- and single-crystalline target of higher manganese silicide, in contrast to a target of sintered Mn and Si powders, after successive annealing at a temperature of 800 K and a temperature of 10–3 Pa for 1 hour, polycrystalline films of higher silicide can be obtained. manganese composition Mn4Si7.
- Keywords
- Date of publication
- 15.09.2025
- Year of publication
- 2025
- Number of purchasers
- 0
- Views
- 75
References
- 1. Шостаковский П. // Компоненты и технологии. 2009. № 12. С. 120.
- 2. Шостаковский П. // Компоненты и технологии. 2010. № 12. С. 131.
- 3. Пустовалов Ю.П., Панкин М.И., Прилепо Ю.П. и др. // Космическая техника и технологии. 2016. № 1 (12). С. 517.
- 4. Федоров М.И. Физические принципы разработки термоэлектрических материалов на основе соединений кремния. Дис. … д-ра физ.-мат. наук. С.-П.: ФТИ им. Иоффе РАН, 2007.
- 5. Zaitsev V.K., Rowe D.M. // CRC Handbook of Thermoelectrics. CRC Press. 1995. P. 299.
- 6. Simkin B.A., Hayashi Y., Inui H. // Intermetallics. 2005. V. 13. P. 1225.
- 7. Chen X., Weathers A., Moore A. et al. // J. Electron. Mater. 2012. V. 41. № 6. P. 1564.
- 8. Zhou A.J., Zhao X.B., Zhu T.J. et al. // J. Electron. Mater. 2009. V. 38. № 7. P. 1072.
- 9. Itoh T., Yamada M. // J. Electron. Mater. 2009. V. 38. № 7. P. 925.
- 10. Иванова Л.Д. // Неорган. материалы. 2011. Т. 47. № 9. С. 1065.
- 11. Кульбачинский В.А. Физика наносистем. М.: Физматлит, 2022. 786 с.
- 12. Bekpulatov I.R., Shomukhammedova D.S., Shukurova D.M., Ibragimova B.V. // E3S Web of Conferences. 2023. V. 365. P. 05015. http://doi.org/10.1051/e3sconf/202336505015
- 13. Mogilatenko A., Falke M., Teichert S. et al. // Microelectron. 2002. V. 64. P. 211.
- 14. Клечковская В.В., Камилов Т.С., Адашева С.Т. и др. // Кристаллография. 1994. Т. 39. № 5. С. 894.
- 15. Суворова Е.И., Клечковская В.В. // Кристаллография. 2013. Т. 58. № 6. С. 855.
- 16. Орехов А.С., Камилов Т.С., Орехов А.С. и др. // Российские нанотехнологии. 2016. Т. 11. № 5–6. С. 37. http://doi.org/10.21883/FTP.2017.06.44547.06
- 17. Камилов Т.С., Клечковская В.В., Шарипов Б.З. и др. Электрические и фотоэлектрические свойства гетерофазных структур на основе кремния и силицидов марганца. Ташкент: Мериюс, 2014. 179 с.
- 18. Берлин Е.В., Сейдман Л.А. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии. М.: Техносфера, 2010. 544 с.
- 19. Kamilov T.S., Rysbaev A.S., Klechkovskaya V.V. et al. // Applied Solar Energy. V. 55. P. 380. http://doi.org/10.3103/S0003701X19060057
- 20. Stadelmann P. JEMS electron microscopy simulation software. 2017. https://www.jems-swiss.ch/
