Представлены первые результаты использования нового экспериментального метода фазово-контрастной микроскопии микрообъектов с использованием синхротронного излучения и нанофокусирующей линзы в конической геометрии. В эксперименте формируется вторичный источник излучения в фокусе линзы на малом расстоянии от микрообъекта, что позволяет получить его увеличенное изображение. В условиях ближнего поля структура микрообъекта относительно легко определяется из экспериментального изображения на основе уравнения транспорта интенсивности. Эксперимент выполнен на источнике “КИСИ-Курчатов”. Использовался модельный слабо поглощающий микрообъект, а именно коммерчески доступное углеродное волокно марки ВМН-4. Получены размеры и особенности структуры волокна с субмикронным пространственным разрешением, которые совпадают с результатами электронной микроскопии.
Представлены результаты первого измерения кривой качания нанофокусирующей составной преломляющей линзы из кремния для фокусировки синхротронного излучения (СИ) на источнике "КИСИ-Курчатов". Полученная кривая с высокой точностью аппроксимируется функцией Гаусса, а ее ширина соответствует развитой ранее аналитической теории для описания распространения СИ в многоэлементных фокусирующих системах. Показана возможность использования кривой качания как характеристики соосности экспериментальной схемы при работе с кремниевыми линзами на источниках СИ второго поколения.
Представлены результаты исследования многослойных зеркал — периодических структур Ti/Ni с различной конфигурацией буферной Si-вставки, перспективных структур для разработки зеркальной оптики для синхротронного излучения. Методами рентгеновской рефлектометрии и стоячих рентгеновских волн исследовались образцы со структурой периода Ti/Ni, Ti/Si/Ni, Ti/Ni/Si и Ti/Si/Ni/Si. Определено, что система Ti/Ni характеризуется наибольшими величинами переходных слоев на границах раздела Ti и Ni. Добавление прослоек Si между слоями Ti и Ni приводит к уменьшению толщин переходных слоев, а добавление Si только внутри периода или только между периодами приводит к асимметрии профилей распределения электронной плотности и профилей распределения элементов по глубине структур. Показано, что оптимальной для использования в качестве зеркал с точки зрения интенсивности рентгеновской рефлектометрии является структура с буферной Si-вставкой как между слоями внутри периода, так и между периодами слоев (Ti/Si/Ni/Si).
Indexing
Scopus
Crossref
Higher Attestation Commission
At the Ministry of Education and Science of the Russian Federation