By this author

X-RAY DIAGNOSTICS OF MULTILAYER Ti/Ni MIRRORS WITH VARIOUS CONFIGURATIONS OF Si BUFFER INSERTS USING X-RAY REFLECTOMETRY AND STANDING X-RAY WAVES METHODS

Issue number 6 from 09.09.2025

Представлены результаты исследования многослойных зеркал — периодических структур Ti/Ni с различной конфигурацией буферной Si-вставки, перспективных структур для разработки зеркальной оптики для синхротронного излучения. Методами рентгеновской рефлектометрии и стоячих рентгеновских волн исследовались образцы со структурой периода Ti/Ni, Ti/Si/Ni, Ti/Ni/Si и Ti/Si/Ni/Si. Определено, что система Ti/Ni характеризуется наибольшими величинами переходных слоев на границах раздела Ti и Ni. Добавление прослоек Si между слоями Ti и Ni приводит к уменьшению толщин переходных слоев, а добавление Si только внутри периода или только между периодами приводит к асимметрии профилей распределения электронной плотности и профилей распределения элементов по глубине структур. Показано, что оптимальной для использования в качестве зеркал с точки зрения интенсивности рентгеновской рефлектометрии является структура с буферной Si-вставкой как между слоями внутри периода, так и между периодами слоев (Ti/Si/Ni/Si).

6 0