Статьи автора

Исследование механизмов фотонного отверждения золь-гель-пленок оксида цинка для гибкой электроники

Номер выпуска 1 от 14.09.2025

Фотоотжиг – технологический прием, позволяющий заменить финишную высокотемпературную обработку металлооксидных золь-гель-пленок на комбинацию мягкого нагрева и УФ-облучения. Установлено, что рост температуры при термической обработке осажденного на подложку золя приводит к превращению ацетата цинка в слоистый основный ацетат цинка, который трансформируется в гидроксид Zn(OH)₂, переходящий в аморфный оксид ZnO. Показано, что при нагреве до 130°С параллельное УФ-облучение пленок способствует непосредственному переходу слоистого основного ацетата цинка в оксид за счет эффективного удаления гидроксильных и ацетатных групп. При повышении температуры до 140°С УФ-облучение пленок утрачивает целесообразность, так как и фотоотжиг, и термообработка приводят к идентичным свойствам исследованных материалов.

73 0