By this author

Selecting a target for obtaining films of higher manganese silicide using magnetron sputtering

Issue number 3 from 01.03.2024

Магнетронным распылением из трех видов мишеней получены тонкие пленки силицидов марганца на слюде. Микроструктура и элементный состав мишеней и пленок исследованы методами растровой электронной микроскопии и дифракции электронов на отражение. Фазовый состав и структуру пленок по толщине (поперечные срезы) контролировали методами растровой и просвечивающей электронной микроскопии. Показано, что при осаждении пленок из поли- и монокристаллической мишеней высшего силицида марганца, в отличие от мишени из спеченных порошков Мn и Si, после последующего отжига при температуре 800 К и давлении 10^–3 Па в течение 1 ч можно получить поликристаллические пленки высшего силицида марганца состава Mn₄Si₇.

128 0

MICROSTRUCTURE OF A CrSi2 TRANSITION LAYER PRODUCED BY HOT PRESSING OF Cr AND Si

Issue number 4 from 01.04.2023

В процессе горячего прессования при 1213 К и последующего отжига на воздухе монокристалла Si в объеме электролитического порошка Cr на границе раздела исходных компонентов происходит формирование промежуточного поликристаллического слоя силицида. Фазовый состав и микроструктура переходного слоя и его окрестностей исследовались методами растровой электронной микроскопии, рентгеновского энерго-дисперсионного микроанализа и дифракции обратно рассеянных электронов. Переходный слой имеет кристаллическую структуру гексагональной фазы дисилицида хрома (пр. гр. P6₂22). Дополнительный отжиг до 120 ч приводит к незначительной рекристаллизации мелких зерен в более крупные.

56 0