Выбор мишени для получения пленок высшего силицида марганца методом магнетронного распыления
Выбор мишени для получения пленок высшего силицида марганца методом магнетронного распыления
Аннотация
Код статьи
S0023476124030144-1
Тип публикации
Статья
Статус публикации
Опубликовано
Авторы
Лукасов М. С.  
Аффилиация: Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова Курчатовского комплекса кристаллографии и фотоники НИЦ “Курчатовский институт”
Страницы
487-493
Аннотация
Магнетронным распылением из трех видов мишеней получены тонкие пленки силицидов марганца на слюде. Микроструктура и элементный состав мишеней и пленок исследованы методами растровой электронной микроскопии и дифракции электронов на отражение. Фазовый состав и структуру пленок по толщине (поперечные срезы) контролировали методами растровой и просвечивающей электронной микроскопии. Показано, что при осаждении пленок из поли- и монокристаллической мишеней высшего силицида марганца, в отличие от мишени из спеченных порошков Мn и Si, после последующего отжига при температуре 800 К и давлении 10–3 Па в течение 1 ч можно получить поликристаллические пленки высшего силицида марганца состава Mn4Si7.
Классификатор
Получено
04.09.2024
Всего подписок
0
Всего просмотров
17
Оценка читателей
0.0 (0 голосов)
Цитировать   Скачать pdf

Библиография

1. Шостаковский П. // Компоненты и технологии. 2009. № 12. С. 120.

2. Шостаковский П. // Компоненты и технологии. 2010. № 12. С. 131.

3. Пустовалов Ю.П., Панкин М.И., Прилепо Ю.П. и др. // Космическая техника и технологии. 2016. № 1 (12). С. 517.

4. Федоров М.И. Физические принципы разработки термоэлектрических материалов на основе соединений кремния. Дис. … д-ра физ.-мат. наук. С.-П.: ФТИ им. Иоффе РАН, 2007.

5. Zaitsev V.K., Rowe D.M. // CRC Handbook of Thermoelectrics. CRC Press. 1995. P. 299.

6. Simkin B.A., Hayashi Y., Inui H. // Intermetallics. 2005. V. 13. P. 1225.

7. Chen X., Weathers A., Moore A. et al. // J. Electron. Mater. 2012. V. 41. № 6. P. 1564.

8. Zhou A.J., Zhao X.B., Zhu T.J. et al. // J. Electron. Mater. 2009. V. 38. № 7. P. 1072.

9. Itoh T., Yamada M. // J. Electron. Mater. 2009. V. 38. № 7. P. 925.

10. Иванова Л.Д. // Неорган. материалы. 2011. Т. 47. № 9. С. 1065.

11. Кульбачинский В.А. Физика наносистем. М.: Физматлит, 2022. 786 с.

12. Bekpulatov I.R., Shomukhammedova D.S., Shukurova D.M., Ibragimova B.V. // E3S Web of Conferences. 2023. V. 365. P. 05015. http://doi.org/10.1051/e3sconf/202336505015

13. Mogilatenko A., Falke M., Teichert S. et al. // Microelectron. 2002. V. 64. P. 211.

14. Клечковская В.В., Камилов Т.С., Адашева С.Т. и др. // Кристаллография. 1994. Т. 39. № 5. С. 894.

15. Суворова Е.И., Клечковская В.В. // Кристаллография. 2013. Т. 58. № 6. С. 855.

16. Орехов А.С., Камилов Т.С., Орехов А.С. и др. // Российские нанотехнологии. 2016. Т. 11. № 5–6. С. 37. http://doi.org/10.21883/FTP.2017.06.44547.06

17. Камилов Т.С., Клечковская В.В., Шарипов Б.З. и др. Электрические и фотоэлектрические свойства гетерофазных структур на основе кремния и силицидов марганца. Ташкент: Мериюс, 2014. 179 с.

18. Берлин Е.В., Сейдман Л.А. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии. М.: Техносфера, 2010. 544 с.

19. Kamilov T.S., Rysbaev A.S., Klechkovskaya V.V. et al. // Applied Solar Energy. V. 55. P. 380. http://doi.org/10.3103/S0003701X19060057

20. Stadelmann P. JEMS electron microscopy simulation software. 2017. https://www.jems-swiss.ch/

Комментарии

Сообщения не найдены

Написать отзыв
Перевести